USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-OES Solution

Technické články | 2021 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Software, ICP-OES
Zaměření
Farmaceutická analýza
Výrobce
Agilent Technologies

Význam tématu


Moderní farmaceutické výrobky musí splňovat přísné limity pro stopové nežádoucí prvky, aby byla zajištěna bezpečnost a účinnost léčiv. Harmonizované požadavky ICH Q3D a USP<232>/<233> definují povolené denní expozice (PDE) pro různé prvky podle cesty podání a jejich toxicity. Analytické techniky ICP-OES a ICP-MS jsou doporučeny pro kvantitativní a selektivní stanovení těchto prvků.

Cíle a přehled studie / článku


Článek představuje řešení Agilent pro analýzu prvkových nečistot v souladu s USP<232>/<233> a ICH Q3D. Popisuje metodiku vzorkování, přípravu, výpočet J-hodnot, instrumentální nastavení, porovnání výkonu ICP-OES a ICP-MS a kompletní pracovní postup včetně kvalifikace zařízení a softwaru.

Použitá metodika a instrumentace


Pro vzorky farmaceutických pevných i roztokových přípravků se využívá:
  • přímá analýza nebo ředění v kyselinách/organických rozpouštědlech,
  • uzavřená mikrovlnná digesce HNO₃/HCl pro úplné rozpuštění a stabilizaci prvků,
  • výpočet J-hodnoty (maximální koncentrace v měřeném roztoku) podle PDE a celkového ředění,
  • kalibrace na úrovni 0,5–1,5×J a kontrola detekovatelnosti a recovery testy podle USP<233>.

Použitá instrumentace


  • ICP-OES Agilent 5800 VDV a 5900 SVDV s vertikální sondou a CCD detektorem Vista Chip III,
  • ICP-MS Agilent 7850 s Ultra High Matrix Introduction (UHMI),
  • LC-ICP-MS integrovaný systém pro speciační analýzu As a Hg,
  • uzavřené mikrovlnné digesční jednotky kompatibilní se solí a kyselinami,
  • inertní vstřikovací systém pro vzorky s HF.

Hlavní výsledky a diskuse


Agilent ICP-OES prokazuje vynikající toleranci komplexních matric (až 25 % TDS), nízké meze detekce (<0,1–3 μg/l) a vysokou stabilitu signálu díky vertikální sondě. CCD detektor pokrývá 167–785 nm, umožňuje interní potvrzení koncentrace pomocí alternativních emisních čar. ICP-MS dosahuje detekčních limitů v jednotkách pg/l, což je výhodné pro parenterální a inhalované formy s nižšími PDE. ICP-OES nabízí dvojnásobnou rychlost analýzy (~2500 vzorků/24 hod) oproti ICP-MS (~1000 vzorků/24 hod).

Přínosy a praktické využití metody


Agilent řešení zajišťuje:
  • plnou shodu s USP<232>/<233> a ICH Q3D,
  • rychlou implementaci díky přednastaveným metodám v softwaru ICP Expert,
  • jednoduchou kvalifikaci instrumentace a softwaru (21 CFR Part 11/Annex 11),
  • vysokou robustnost a minimální údržbu vertikální sondy,
  • auditu připravenou dokumentaci a referenční materiály CRM s deklarovanou stoprocentní stoprovatelností.

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se další rozšíření speciačních technik pro toxické formy prvků pomocí LC-ICP-MS, automatizace vzorkovacích postupů a datových workflow pro rychlou interpretaci. Vývoj certifikovaných multi-elementových standardů a pokročilá softwarová analýza umožní efektivnější správu rizik prvkových nečistot v real-time prostředí výrobních linek.

Závěr


Agilent nabízejí komplexní řešení pro analýzu prvkových nečistot v souladě s globálními farmaceutickými předpisy. Výkonné instrumenty, integrovaný software, kvalifikace a podpora zajišťují spolehlivé výsledky, efektivní provoz a usnadňují splnění regulatorních požadavků.

Reference


  1. Elemental Impurities—Limits, Pharm. Forum, 2016, 42(2), Revision to Chapter <232>.
  2. Elemental Impurities—Procedures, Pharm. Forum, 2014, 40(2), Revision to Chapter <233>.
  3. ICH Guideline Q3D on Elemental Impurities, EMA/CHMP/ICH/353369/2013, July 2016.
  4. L. Whitecotton et al., Elemental Impurities in Aspirin: USP <232>/<233> and ICH Q3D Methods Using ICP-OES, Agilent 5991-8337EN.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-MS Solution
Proposed new ICH and USP methods for elemental impurities: The application of ICP-MS and ICP-OES for pharmaceutical analysis
Validating performance of an Agilent ICP‑MS for USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1)
Measuring Elemental Impurities in Pharmaceutical Materials
Measuring Elemental Impurities in Pharmaceutical Materials
2022|Agilent Technologies|Brožury a specifikace