Analysis of Pharmaceutical Raw Materials Compliant with ICH Q3D Guideline Using ICP-MS with Collision/Reaction Mode

Význam tématu

V praxi farmaceutického průmyslu je klíčové sledovat stopy kovových nečistot v surovinách.
Mezinárodní guideline ICH Q3D stanovuje povolené denní expozice 24 toxických prvků.
ICP-MS umožňuje citlivou a simultánní analýzu stopových kovů pod kontrolním prahem 30 % PDE.

Cíle a přehled studie / článku

Cílem bylo ověřit možnost stanovení 24 prvků dle ICH Q3D v surovinách (aspirin, kyselina salicylová, ibuprofen) rozpuštěných v ethanolu.
Hodnoceny byly parametry validace podle USP a EP: přesnost, opakovatelnost, mez stanovitelnosti a specificita.

Použitá metodika

Vzorky: 0,1 g materiálu rozpuštěného v ethanolu s HNO₃/HCl, naředěno 100×.
Kalibrace: standardy ICH Q3D v koncentracích 0,5 J, 1 J, 1,5 J s interními standardy Be, Bi, Ga, Y (0,2 mg/L).
Validace: trojnásobné přídavky (0,5 J, 1 J, 1,5 J) pro přesnost, šestinásobné pro opakovatelnost.
Optimalizace interference MoO na Cd: porovnání He-kolizního a H₂-reakčního režimu.

Použitá instrumentace

• Systém ICPMS-2050 se speciální organickou hořákovou tryskou
• Platinový sampling cone, niklový skimmer cone
• Online Internal Standard Kit (Solva PVC hadičky)
• Gasový režim: NoGas, He, H₂ pro potlačení interferencí
• Parametry: RF výkon 1,60 kW, plasma gas 20 L/min, aux. gas 0,5 L/min, carrier 0,55 L/min

Hlavní výsledky a diskuse

Úspěšné odstranění interference MoO na Cd v H₂-reakci (koncentrace Cd z interferencí < detekční limit).
Spike recovery 94–111 %, RSD opakovatelnosti 0,27–3,79 % pro všechny 24 prvků.
LOQ potvrzená splněním přesnosti pro 50 % cílové koncentrace.

Přínosy a praktické využití metody

Metoda umožňuje rychlé a spolehlivé vyhodnocení kovových nečistot v ethanolem rozpustných farmaceutických surovinách.
Vhodné pro QA/QC laboratoře a podporu souladu s ICH Q3D, USP a EP.

Budoucí trendy a možnosti využití

Rozšíření na další matricové typy včetně vodných i nepolárních extraktů.
Automatizace přípravy vzorků a online ředění pro vyšší throughput.
Implementace pokročilých reakčních plynů pro potlačení dalších interferencí.

Závěr

Shimadzu ICPMS-2050 prokázal vysokou citlivost a spolehlivost při analýze 24 prvků dle ICH Q3D.
Splňuje kritéria přesnosti, opakovatelnosti, mezí stanovitelnosti a specificity dle farmakopeí.

Reference

1. ICH Q3D Guideline (2015, 2023)
2. USP <232> Elemental Impurities-Limits
3. USP <233> Elemental Impurities-Procedures