Suppressor «Cupraspeed» in acid copper baths (Atotech)

Aplikace |  | MetrohmInstrumentace
Voltametrie/Coulometrie
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Metrohm

Význam tématu

Suppressory ve mědění hrají klíčovou roli při řízení kinetiky depozice mědi, ovlivňují homogennost vrstvy, lesk a adhezi povlaku.

Cíle a přehled studie

Cílem této aplikace je kvantitativní stanovení potlačovače Cupraspeed v kyselých měděných lázních pomocí ředicí titrace spojené s cyklickou voltametrickou strippingovou analýzou (CVS). Metoda spojuje stechiometrické ředění vzorku a elektrochemická měření náboje odtržení mědi, což umožňuje rychlé a přesné stanovení koncentrace supresoru.

Použitá metodika

Metoda využívá hydrodynamické CVS s rotační diskovou elektrodou (RDE) za konstantní rychlosti míchání. Kalibrace probíhá ředicí titrací, při níž se sleduje poměr náboje Cu odtržení s potlačovačem vůči referenčnímu náboji bez potlačovače (Q/Q(0)).
Parametry měření:
  • Rychlost míchání: 2000 rpm
  • Režim: CVS
  • Startovací potenciál: +1,575 V
  • Minimální vertex potenciál: -0,25 V
  • Maximální vertex potenciál: +1,575 V
  • Voltový krok: 0,006 V
  • Rychlost skenování: 0,1 V/s
  • Hodnocený potenciál Cu: cca +0,2 V
  • Evaluační poměr: Q/Q(0) = 0,7

Použitá instrumentace

  • Pracovní elektroda: Pt-RDE (typ 6.1246.000 s Pt hrotem 6.1204.160)
  • Pomocná elektroda: Pt drát (6.0343.000)
  • Referenční elektroda: Ag/AgCl/KCl (3 mol/L, 6.0728.020) s mezielektrolytem KNO3/H2O (3:1, 6.1245.010)
  • Elektrolyt: Virgin Make-up Solution s CuSO4, H2SO4 a NaCl dle specifikací
  • Měřicí roztok: 100 mL VMS

Hlavní výsledky a diskuse

Strippingová křivka ukázala pokles proudu při vzrůstající koncentraci supresoru, což odráží efektivní potlačení depozice mědi. Kalibrační křivka Q/Q(0) vs. objem přidaného VMS je lineární, což dovoluje precizní stanovení potlačovače.

Přínosy a praktické využití metody

  • Rychlá a opakovatelná metoda s minimální přípravou vzorku
  • Vysoká přesnost a citlivost v rozsahu pracovní koncentrace supresoru
  • Snadná implementace pro kontrolu kvality ve výrobě elektrolytů

Budoucí trendy a možnosti využití

  • Automatizované inline ředicí titrace s CVS
  • Integrace do průmyslových systémů monitoringu a řízení procesů
  • Rozšíření metody pro simultánní stanovení dalších přísad lázní

Závěr

Kombinace ředicí titrace a CVS poskytuje spolehlivý nástroj pro kvantifikaci potlačovače Cupraspeed v kyselých měděných lázních, přispívá ke zlepšení řízení kvality a optimalizaci elektrolytických procesů.

Reference

  • Atotech Application Note V-137, Version 1.0

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Suppressor «InPulse H6» in acid copper baths (Atotech)
Suppressor «Cupracid BL-CT» in acid copper baths (Atotech)
Suppressor «Thru-Cup EVF-B» in acid copper baths (Uyemura)
Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)