Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in acid copper baths (Rohm and Haas Electronic Materials)

Význam tématu

Efektivní řízení koncentrace potlačující přísady Copper Gleam™ 2001 Carrier v kyselých mědnicích je klíčové pro zajištění kvalitního a rovnoměrného nanášení vrstev mědi, minimalizaci vad povrchu a optimalizaci výrobního procesu.

Cíle a přehled studie / článku

Cílem této aplikace je prezentovat robustní analytickou metodu, která kombinuje cyklické voltametrické strippingové měření s ředicí titrací pro kvantitativní stanovení supresoru v průmyslových mědnicích. Metoda byla navržena pro použití bez předběžné úpravy vzorku, s cílem umožnit rychlé a reprodukovatelné stanovení v reálných podmínkách.

Použitá metodika a instrumentace

• Vzorek: Acid copper electroplating bath – bez další přípravy, 100 ml Virgin make-up solution (CuSO₄, H₂SO₄, NaCl dle specifikace výrobce).
• Metoda: Cyclic voltammetric stripping (CVS) s kalibrací pomocí dilution titration (DT).
• Pracovní elektroda (WE): Pt-RDE (rotační disková elektroda), rotační rychlost 2000 rpm.
• Pomocná elektroda (AE): Pt tyč.
• Referenční elektroda (RE): Ag/AgCl/KCl (3 mol/l) se solným můstkem KNO₃ (sat. dil. 3:1 H₂O).
• Parametry měření: start 1,575 V, první vertex −0,225 V, druhý vertex 1,575 V, krok 6 mV, rychlost skenování 0,1 V/s, vyhodnocení poměru Q/Q(0) při potenciálu Cu ≈0,2 V (±0,2 V).

Hlavní výsledky a diskuse

Metoda prokázala lineární závislost poměru náboje Q/Q(0) na objemu přidávané suspenze supresoru v rozsahu až do cca 0,20 ml. Typické CVS křivky vykazují dobře rozlišitelný anodický strippingový vrchol mědi, jehož intenzita a poloha se s rostoucí koncentrací supresoru měnit. Analýza byla vysoce reprodukovatelná, což potvrzuje vhodnost metody pro rutinní kontrolu.

Přínosy a praktické využití metody

• Rychlá analýza bez složité přípravy vzorku.
• Vysoká citlivost a dobrá reprodukovatelnost výsledků.
• Možnost aplikace přímo v laboratorních a výrobních podmínkách QA/QC.

Budoucí trendy a možnosti využití

Očekává se integrace tohoto postupu do automatizovaných systémů monitorování galvanických lázní. Dalším krokem je rozšíření metody na stanovení dalších typů přísad a adaptace na miniaturizované elektrochemické senzory.

Závěr

Kombinace cyklického voltametrického strippingu s ředicí titrací představuje efektivní a spolehlivou metodu pro stanovení Copper Gleam™ 2001 Carrier v kyselých mědnicích. Metoda splňuje požadavky na rychlost, přesnost a jednoduchost, což z ní činí vhodný nástroj pro rutinní kontrolu kvality.

Reference

• VA Application Note No. V-133, Version 1.0, Rohm and Haas Electronic Materials