▾
CS
▾
Obor
ALL
GCMS
LCMS
Rozcestník
Novinky
Články
Události
Akademie
již brzy
Knihovna
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Marketplace
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Všechny obory
GCMS
LCMS
Účet
Přihlásit se
Registrovat
▾
Novinky
▾
Knihovna
Webináře
Produkty
▾
Společnosti
▾
Kariéra
▾
CS
▾
Zaměření
Instrumentace
Laboratorní plyny a generátory plynů
(36)
RAMAN Spektrometrie
(1)
Software
(6)
Výrobce
Linde
(36)
Wiley
(3)
Distributor
LabRulez s.r.o.
LabRulez s.r.o.
Laboratorní plyny a generátory plynů (36)
Software a knihovny (6)
Služby (1)
Přístroje a služby
Produkty distribuované přes LabRulez s.r.o. - strana 2
Linde Dusík 4.0 – tlaková lahev
Linde dusík 4.0 (≥99,99 %) pro průmysl a technické aplikace. Spolehlivý ochranný, proplachovací a chladicí plyn.
Linde Dusík 4.6 – tlaková lahev
Linde dusík 4.6 (≥99,996 %) pro průmysl a analytiku. Spolehlivý ochranný, proplachovací a nulovací plyn.
Linde Dusík 5.6 – tlaková lahev
Linde dusík 5.6 (≥99,9996 %) pro analytiku, GC a průmysl. Ultra čistý ochranný, proplachovací a nosný plyn.
Linde Dusík 5.0 – tlaková lahev
Linde dusík 5.0 (≥99,999 %) pro analytiku, průmysl a elektroniku. Vysoce čistý ochranný, proplachovací a nulovací plyn.
Linde Heliová směs (50 % He v N₂) – tlaková lahev
Linde směs 50 % He v N₂ pro analytiku a testování. Nehořlavý a stabilní plyn pro laboratorní i průmyslové aplikace.
Linde Heliová směs (10 % He/N₂) – tlaková lahev
Linde směs 10 % He v N₂ pro detekci netěsností. Stabilní, nehořlavý a bezpečný plyn pro testování těsnosti.
Linde Heliová směs (40 % H2 v He), tlaková lahev
Linde Směs 40 % H₂ v He pro analytiku a GC. Stabilní, inertní pracovní plyn vhodný pro laboratorní aplikace.
Linde Helium 6.0, tlaková lahev
Linde helium 6.0 (≥99,9999 %) pro GC, analytiku a výzkum. Ultra čistý nosný, měřicí a proplachovací plyn pro nejnáročnější aplikace.
Linde Helium 5.0, tlaková lahev
Linde helium 5.0 (≥99,999 %) pro analytiku, GC a průmysl. Vysoce čistý nosný, měřicí a proplachovací plyn.
Linde Helium 5.3, tlaková lahev
Linde helium 5.3 (≥99,9993 %) pro analytiku, GC a elektronický průmysl. Vysoce čistý nosný a proplachovací plyn.
Před
1
2
3
...
Další
Načíst další
Mohlo by Vás zajímat
Analýza vysoce čistého titanu pomocí Agilent 9500 ICP-QQQ
Antonín Holý 90: vědecký odkaz, který stále mění svět i českou vědu
Webináře LabRulezICPMS týden 36/2026