Agilent ICP-MS Journal (February 2015 – Issue 60)

Ostatní | 2015 | Agilent TechnologiesInstrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Zaměření
Životní prostředí, Průmysl a chemie
Výrobce
Agilent Technologies

Význam tématu


ICP-MS a jeho pokročilé varianty jsou klíčovým nástrojem pro stopové stanovení kovů a charakterizaci nanopartikulárních systémů v polovodičovém průmyslu, environmentální analýze, farmaceutickém výzkumu i při vývoji nových přístrojů.

Cíle a přehled článku


Časopis představuje několik aplikovaných studií:
  • Analyst's Perspective – použití Agilent 8800 ICP-QQQ pro kontrolu kovových kontaminantů na křemíkových waferech.
  • Characterization of Nanoparticles – CE-ICP-MS metoda pro simultánní stanovení velikosti a složení nanopartiklí ve spotřebním zboží a vodních vzorcích.
  • Investigation of Aviation Gasoline – GC-ICP-MS analýza profilu uhlovodíků a obsahu tetraethylolova v leteckém benzínu.
  • Agilent ICP-MS: History of Innovation – přehled vývoje ICP-MS od prvních modelů PMS až po moderní kvadrupólové MS/MS systémy.

Použitá metodika a instrumentace


Hlavní přístroje a techniky:
  • ICP-QQQ (MS/MS) – Agilent 8800 s buněčnými reakcemi (H₂, O₂) pro odstranění interferencí.
  • CE-ICP-MS – Agilent HP 3D CE spojený s 7500ce, separace nanopartiklí podle migrace a multielementální detekce.
  • GC-ICP-MS – Agilent 7890 GC spojený s 7900 ICP-MS v TRA režimu pro monitorování ¹³C a Pb izotopů.
  • Vývojové milníky – PMS100/200 (1987–1990), HP 4500 (1994), Agilent 7500 (2000), 7700 (2007), 8800 (2012), 7900 (2014).

Hlavní výsledky a diskuse


Studie potvrdily:
  • V polovodičovém průmyslu lze stanovit stopové kovové kontaminanty (Li–Pb) na waferech s DL v řádu 0,01–5 ppt díky MS/MS filtrovaní Si interferencí.
  • CE-ICP-MS umožňuje paralelní stanovení více velikostí Ag a Au NPs (10–40 nm) spolu s rozlišením iontů, validované porovnáním s TEM a DLS.
  • GC-ICP-MS usnadňuje rychlou kontrolu složení AvGas 100LL a přesné stanovení obsahu tetraethylolova (0,41–0,43 g/L) bez přítomnosti nežádoucích frakcí.
  • Pokrok v instrumentaci vedl k vyšší citlivosti, dynamickému rozsahu, odolnosti vůči vysoké solnosti a usnadnění obsluhy moderních ICP-MS přístrojů.

Přínosy a praktické využití metody


Aplikované metody poskytují spolehlivý nástroj pro: kontrolu kvality procesních kapalin a povrchů ve výrobě polovodičů, analýzu nanopartiklí v komerčních výrobcích a sledování kontaminace v životním prostředí.

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se další rozvoj MS/MS technologií pro dokonalé potlačování interferencí, automatizace vzorkování, miniaturizace separačních modulů a rozšíření aplikací v biomedicíně, forenzní chemii a dynamickém sledování NPs in situ.

Závěr


Prezentované příspěvky ilustrují výjimečnou výkonnost moderních ICP-MS systémů a jejich schopnost řešit náročné analytické úlohy v multiaplikacích. Historie vývoje od experimentálních prototypů až po MS/MS platformy potvrzuje neustálý posun v citlivosti, selektivitě a robustnosti analýz.

Reference


  • Katsuo Mizobuchi, Masakazu Yukinari, Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode, Agilent (2014), 5991-5372EN.
  • Lihong Liu et al., Identification and Accurate Size Characterization of Nanoparticles in Complex Media by CE-ICP-MS, Angew. Chem. Int. Ed. 2014, 53, 14476–14479.
  • M. Hasselløv, J.W. Readman, J.F. Ranville, K. Tiede, Ecotoxicology 2008, 17, 344–361.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Agilent ICP-MS Journal  (July 2016 – Issue 66)
Agilent ICP-MS Journal (July 2016 – Issue 66)
2016|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS (Technical Overview)
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS (Technical Overview)
2025|Agilent Technologies|Technické články
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900