▾
CS
▾
Obor
ALL
GCMS
LCMS
Rozcestník
Novinky
Články
Události
Akademie
již brzy
Knihovna
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Marketplace
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Všechny obory
GCMS
LCMS
Účet
Přihlásit se
Registrovat
▾
Novinky
▾
Knihovna
Webináře
Produkty
▾
Společnosti
▾
Kariéra
▾
CS
▾
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(13)
Forenzní analýza a toxikologie
(2)
Klinická analýza
(14)
Materiálová analýza
(11)
Instrumentace
AAS
(10)
GD/MP/ICP-AES
(8)
ICP-OES
(10)
ICP/MS
(164)
Výrobce
Agilent Technologies
(173)
CEM
(2)
Elemental Scientific
(6)
Metrohm
(1)
Autor
Agilent Technologies
RAFA
(1)
Shimadzu
(4)
Thermo Fisher Scientific
(1)
Agilent Technologies
Typ Publikace
Aplikace
(61)
Brožury a specifikace
(13)
Manuály
(1)
Ostatní
(45)
Rok vydání
8900 Aplikace od Agilent Technologies - strana 5
Otevřít dokument Agilent Atomic Spectroscopy: AA, MP-AES, ICP-OES, ICP-MS, ICP-QQQ
Agilent Atomic Spectroscopy: AA, MP-AES, ICP-OES, ICP-MS, ICP-QQQ
ICP/MS, ICP-OES, AAS, ICP/MS/MS, GD/MP/ICP-AES
Instrumentace
ICP/MS, ICP-OES, AAS, ICP/MS/MS, GD/MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Otevřít dokument APWC: Interference-free Measurement of Trace Mercury in Tungsten-rich Cosmetic Sample using ICP-QQQ
APWC: Interference-free Measurement of Trace Mercury in Tungsten-rich Cosmetic Sample using ICP-QQQ
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Ostatní
Otevřít dokument Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Otevřít dokument Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ
Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Evaluation of the Elemental Content of a Single Cell using Fast Time- Resolved Analysis (TRA) ICP-MS
Evaluation of the Elemental Content of a Single Cell using Fast Time- Resolved Analysis (TRA) ICP-MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Klinická analýza
Otevřít dokument Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ
Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ
Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Atomic Spectroscopy Applications in the Environmental Laboratory
Atomic Spectroscopy Applications in the Environmental Laboratory
Software, ICP/MS, ICP-OES, AAS, ICP/MS/MS, GD/MP/ICP-AES
Instrumentace
Software, ICP/MS, ICP-OES, AAS, ICP/MS/MS, GD/MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific
Zaměření
Životní prostředí
Před
1
...
4
5
6
...
Další