▾
CS
▾
Obor
ALL
GCMS
LCMS
Rozcestník
Novinky
Články
Události
Akademie
již brzy
Knihovna
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Marketplace
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Všechny obory
GCMS
LCMS
Účet
Přihlásit se
Registrovat
▾
Novinky
▾
Knihovna
Webináře
Produkty
▾
Společnosti
▾
Kariéra
▾
CS
▾
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(9)
Forenzní analýza a toxikologie
(1)
Klinická analýza
(14)
Materiálová analýza
(13)
Instrumentace
AAS
(9)
GD/MP/ICP-AES
(12)
ICP-OES
(15)
ICP/MS
(219)
ICP/MS/MS
ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
(220)
CEM
(3)
Elemental Scientific
(5)
Metrohm
(1)
Autor
Agilent Technologies
RAFA
(1)
Savillex
(1)
Thermo Fisher Scientific
(75)
Agilent Technologies
Typ Publikace
Aplikace
(87)
Brožury a specifikace
(10)
Manuály
(3)
Ostatní
(57)
Rok vydání
Aplikace se zaměřením na ICP/MS/MS od Agilent Technologies - strana 4
Otevřít dokument Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS
Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Agilent ICP-MS Journal (May 2023, Issue 92)
Agilent ICP-MS Journal (May 2023, Issue 92)
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Otevřít dokument WCPS: Investigation of Microplastic Size and Number Changes During Simulated UV-Degradation Using Single Particle ICP-MS/MS
WCPS: Investigation of Microplastic Size and Number Changes During Simulated UV-Degradation Using Single Particle ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Materiálová analýza
Otevřít dokument WCPS: Direct Metal Analysis by New Galvano-Mirror fs-LA-ICP-MS using 100%-Normalization Method with NIST 612 Glass CRM as Calibration Standard
WCPS: Direct Metal Analysis by New Galvano-Mirror fs-LA-ICP-MS using 100%-Normalization Method with NIST 612 Glass CRM as Calibration Standard
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Otevřít dokument WCPS: Single-Cell and Bulk ICP-MS Investigation of Accumulation Patterns of Pt-based Drugs in Cisplatin–Sensitive and –Resistant Cell Models
WCPS: Single-Cell and Bulk ICP-MS Investigation of Accumulation Patterns of Pt-based Drugs in Cisplatin–Sensitive and –Resistant Cell Models
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza, Klinická analýza
Otevřít dokument WCPS: Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2- Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method
WCPS: Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2- Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Otevřít dokument Single Cell and Microplastic Analysis by ICP-MS with Automated Micro- Flow Sample Introduction
Single Cell and Microplastic Analysis by ICP-MS with Automated Micro- Flow Sample Introduction
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Klinická analýza
Otevřít dokument Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
...
3
4
5
...
Další