Agilent ICP-MS Journal (April 2018. Issue 72)

Ostatní | 2018 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Potraviny a zemědělství, Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Význam tématu


  • Spektrometrie ICP-MS hraje klíčovou roli v kontrole stopových kontaminantů v polovodičovém průmyslu, kde i nejmenší množství kovů může výrazně ovlivnit výtěžnost a spolehlivost polovodičových součástek.
  • Vysoce čisté kyseliny používané při výrobě čipů (HNO₃, HCl) vyžadují analýzu kontaminantů na sub-ppt úrovni.
  • Zkoumání přítomnosti kovových stop ve výparných složkách e-cigaret upozorňuje na nový zdroj expozice toxickým kovům.
  • Neustálé zdokonalování technologie ICP-MS (zejména přechod na trojkvadrupólové systémy MS/MS) posouvá hranice citlivosti a selektivity měření.

Cíle a přehled článků


  • Popis vývoje a inovací Agilent ICP-MS a ICP-QQQ pod tlakem požadavků polovodičového průmyslu.
  • Metody přímé analýzy ultrakrátkých kontaminantů v koncentrovaných kyselinách HNO₃ a HCl pomocí Agilent 8900 ICP-QQQ.
  • Studie přenosu kovů z topných spirál do kapaliny a aerosolu v elektronických cigaretách, měřená Agilent 8800 ICP-QQQ.
  • Souhrn klíčových témat z konference Winter Plasma Conference 2018 a Agilent zákaznických akcí.
  • Přehled hlavních průlomových inovací Agilent ve spektrální analýze od 80. let do současnosti.

Použitá metodika a instrumentace


  • Agilent 8900 a 8800 ICP-QQQ provozované v režimu MS/MS pro potlačení polyatomových interferencí a dosažení sub-ppt detekčních limitů.
  • Bezodstředivý odskokový iontový systém (off-axis ion lens) a technologie „cool plasma“ pro analýzu prvků jako Na, K, Ca a Fe.
  • Metoda standard addition (MSA) pro kvantifikaci stopových kovů v nezředěných vzorcích kyselin.
  • Vzorkování aerosolu z e-cigaret za účelem stanovení kovových koncentrací ve výparu.
  • Software ICP Expert a MassHunter pro optimalizaci metod a vyhodnocení dat.

Hlavní výsledky a diskuse


  • Vysoká linearita a detekční limity na úrovni desítek až stovek fg/L pro 49 prvků v koncentrovaném HNO₃ a pro 50 prvků v HCl.
  • Koncentrace kovových kontaminantů v komerčních kyselinách výrazně nižší než limity SEMI pro Tier-B a Tier-C specifikace.
  • Aerosol z e-cigaret obsahoval až desítky μg/kg Pb, Ni, Cr a Mn, což naznačuje významný přenos kovů z topných spirál.
  • Na konferenci WPC 2018 dominovala témata speciační analýzy, laserové ablaci, analýzy nanopartikulí, izotopových poměrů a vývoje triple quadrupole ICP-MS.

Přínosy a praktické využití metody


  • Zavedení ultračistých protokolů a MS/MS technologie umožňuje spolehlivou kontrolu kvality chemikálií ve výrobě polovodičů.
  • Monitorování stopových kovů v e-cigaretách poskytuje vědecký základ pro hodnocení zdravotních rizik.
  • Přesné stanovení kontaminantů v ultrakrátkých vzorcích zkracuje čas přípravy a minimalizuje riziko přidání rušivých nečistot.

Budoucí trendy a možnosti využití


  • Další rozvoj trojkvadrupólových ICP-QQQ systémů směrem k vyšší citlivosti a nižšímu pozadí, zvláště pro lehké a vysoce reaktivní prvky (P, Si, S, Cl).
  • Rozšíření aplikací na analýzu jednotlivých nanopartikulí, jednorázových buněk a složitých matic v biomedicíně a environmentální chemii.
  • Integrace pokročilých softwarových nástrojů pro automatizované vyhodnocování dat a řízení kvality v reálném čase.

Závěr


  • Agilent ICP-QQQ technologie splňuje náročné požadavky monitoringu kontaminantů v polovodičovém průmyslu, ultrakrátkých kyselinách a nově i v aerosolech e-cigaret.
  • Rozvoj MS/MS metod a čistých rozhraní vzorkování dál posouvá hranici možného v ultra-stopové analýze.

Reference


  • SEMI C35-0708: Specifications and Guidelines for Nitric Acid (2008).
  • SEMI C27-0708: Specifications and Guidelines for Hydrochloric Acid (2008).
  • Agilent Application Notes: 5991-8675EN, 5991-8798EN, 5991-7701EN, 5991-7008EN, 5991-6852EN, 5991-1693EN.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS