Are you measuring ICP-OES samples more than once?

Příručky | 2019 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP-OES
Zaměření
Výrobce
Agilent Technologies

Význam tématu


V oblasti ICP-OES analýz představuje opakované měření vzorků významný časový i finanční náklad. Vyšší podíl znovu analyzovaných vzorků snižuje produktivitu, zvyšuje chybovost a narušuje dodržování termínů. Snížení tohoto podílu přináší laboratorím možnost věnovat se vyšší přidané hodnotě, zlepšit spokojenost klientů a omezit riziko reputačních ztrát.

Cíle a přehled studie


Studie vychází z interního průzkumu, který odhalil, že v průměru 15 % vzorků je třeba znovu změřit. Cílem je identifikovat nejčastější příčiny re-měření u ICP-OES a navrhnout praktické postupy, jak jim předcházet, aby laboratorní pracovníci – jako „Luke“ – omezili plýtvání časem a zdroji.

Použitá metodika a instrumentace


Analýza je založena na přehledu běžných chybových scénářů v provozu ICP-OES a navrhovaných opatřeních včetně:
  • pravidelných denních automatizovaných testů výkonu přístroje,
  • sledování QC roztoků: Continuing Calibration Verification (CCV), Laboratory Control Sample (LCS), Matrix Spike Duplicate (MSD), blanků,
  • údržby a čištění klíčových komponent: nebulizér, torch, preoptické okénko, spray komora, peristaltické pumpy,
  • metodiky přípravy kalibrací a referenčních materiálů,
  • použití argonu, chlazené vody a volitelně zvlhčovače argonu.

Hlavní výsledky a diskuse


Průzkum odhalil, že průměrná míra re-měření vzorků u ICP-OES dosahuje 15 %. Při běžném provozu 250 vzorků týdně to znamená až 82 hodin navíc ročně. Hlavní příčiny lze rozdělit do dvou skupin:
  • Instrumentální problémy (blokace nebulizéru, zanesení torche a okének, fluktuace parametrů, opotřebení pump, špatné plynové/elektrické podmínky),
  • Problémy související se vzorky (spektrální interference, chybná kalibrace, kontaminace, nesprávná příprava a trávení, vysokomatrixové či přetokové vzorky).

Pro každý problém studie nabízí konrétní řešení: filtrování či odstředění vzorků, optimalizace parametů metody (RF výkon, rychlost pumpy, doby delay), preventivní čištění klíčových dílů, systémové kontroly pipet, armatur a laboratorních postupů.

Přínosy a praktické využití metody


Implementací navržených opatření laboratoře zaznamenají:
  • redukovanou potřebu re-měření a tím i významnou úsporu času,
  • zvýšenou stabilitu a spolehlivost analytických výsledků,
  • menší riziko chyb, provozních prostojů a nadměrné pracovní zátěže personálu,
  • lepší dodržování termínů a vyšší spokojenost zákazníků.

Budoucí trendy a možnosti využití


Vývoj směřuje k plné automatizaci a digitální integraci analytických workflow:
  • pokročilá automatická ředicí zařízení integrovaná s ICP-OES softwarem,
  • spektrální dekonvoluční a inter-elementové korekční algoritmy,
  • prediktivní údržba na bázi strojového učení pro včasné odhalení opotřebení součástí,
  • propojení s LIMS systémy pro online sledování kvality a spotřebního materiálu,
  • vylepšené konstrukce torche a spray komor pro lepší odolnost vůči kontaminaci.

Závěr


Systémový přístup k řízení kvality v ICP-OES, pravidelné výkonové testy, striktní laboratorní protokoly a cílená údržba klíčových komponent minimalizují výskyt re-měření vzorků. Díky tomu rostou efektivita laboratoře, kvalita dat a spokojenost klientů.

Reference


  • US EPA Method 200.7: Determination of Metals and Trace Elements in Water and Wastes by ICP-OES
  • US EPA Method 6010C: Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometry
  • Agilent Technologies: How to stop time-wasting remeasurements. E-book, 2019.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

14 Causes of Metals Analysis Failure
14 Causes of Metals Analysis Failure
2020|Agilent Technologies|Příručky
How to Prevent Common ICP-OES Instrument Problems
How to Prevent Common ICP-OES Instrument Problems
2019|Agilent Technologies|Příručky
How to Reduce ICP-OES Remeasurement Caused by Sample Problems and Errors
Unproductive Time Traps in ICP-MS Analysis and How to Avoid Them