Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol

Aplikace | 2022 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Význam tématu


Vysoká čistota isopropylalkoholu (IPA) je klíčová ve výrobě polovodičů, kde i velmi nízké koncentrace kovových stop (řádově ng/L) mohou ovlivnit výtěžnost a spolehlivost součástek. Důsledná kontrola stopových prvků zajišťuje stabilní elektrické vlastnosti izolačních a vodivých vrstev na křemíkových destičkách.

Cíle a přehled studie / článku


Cílem studie bylo vyvinout a demonstrovat metodu pro automatizovanou analýzu stopových kovů v IPA na úrovni ng/L pomocí systému Agilent 8900 ICP-QQQ ve spojení s online standard addition systémem IAS ASAS. Metoda má umožnit spolehlivou kvantifikaci ultratrace prvků bez potřeby vysoce specializovaného personálu.

Použitá metodika a instrumentace


Reagencie a vzorky
  • IPA třídy Grade 4 připravená dvojitou destilací v čisté laboratoři
  • Směsný multielementní standard 10 µg/L ředěný do IPA s 1 % HNO3

Nástrojové vybavení
  • ICP-QQQ Agilent 8900 Semiconductor configuration
  • Peltierem chlazená kvasinková komora na –5 °C, quartzová torch s 1,5 mm injektorem
  • Platinové kužely, s-lens, kolizně-reakční buňka (He, H2, NH3, O2)
  • Automatický online doplňovací systém ASAS od IAS Inc s mikroobjemovou stříkačkou a optickými snímači průtoku

Operační podmínky
  • RF výkon 1500 W, hloubka vzorku 18 mm
  • Možné režimy měření MS/MS se střídáním verzus CRC
  • Nežádoucí uhlíkové polyatomické interference eliminovány ochlazením plazmatu a volbou reakčních plynů

Automatizace standard addition
  • Systém ASAS měří rychlost nasávání vzorku v rozsahu 0,1–99,99 µL/min
  • Spočítá a přidá definované množství standartní příměsi do proudu vzorku
  • Umožňuje přípravu standardních aditiv i ověřovacích spike recovery testů on-line bez manuálních operací

Hlavní výsledky a diskuse


Pomocí metody bylo analyzováno 47 prvků, včetně všech 22 definovaných v normě SEMI C41-0705. Detekční limity (DL) a ekvivalentní koncentrace na pozadí (BEC) pro požadované prvky ležely hluboko pod limitem 100 ng/L, často na úrovni jednotek až desetin ng/L. Vzorky spiked na 20 ng/L vykázaly recoveries 91–108 % s RSD 1,6–8,9 %.
Specifické příklady odstranění interferencí
  • 24Mg+: potlačení C2+ díky ochlazené plazmě a NH3 v CRC, DL 0,02 ng/L
  • 27Al+: eliminace C-N a CNH interfering, DL 0,042 ng/L
  • 52Cr+: odstranění Ar-C, DL 0,16 ng/L
  • 31P: MS/MS s O2, tvorba PO+ na m/z 47, BEC 43 ng/L, DL 2,6 ng/L

Přínosy a praktické využití metody


Automatizace kroků vzorek-kalibrace minimalizuje riziko kontaminace i laboratorních chyb a výrazně zjednodušuje rutinní provoz. Metoda poskytuje vysokou reprodukovatelnost i citlivost potřebnou pro kontrolu nejvyšších čistot v polovodičovém průmyslu.

Budoucí trendy a možnosti využití


Další rozšíření může zahrnovat on-line nepřetržitý monitoring procesních kapalin, využití v Multi Vessel CSI systémech a integraci umělé inteligence pro adaptivní optimalizaci metodiky. Přesná automatizovaná standard addition umožní rozšíření i na jiné organické rozpouštědla a náročné matrice.

Závěr


Popsaná kombinace Agilent 8900 ICP-QQQ a IAS ASAS představuje robustní a snadno ovladatelnou metodu pro ultratrace analýzu kovových stop v IPA. Metoda splňuje současné i budoucí požadavky na čistotu polovodičových chemikálií a nabízí vysokou efektivitu i spolehlivost.

Reference


  • SEMI C41-0705 Specifications and Guidelines for 2-Propanol 2005
  • Asia Pacific Winter Conference on Plasma Spectroscopy 2008
  • Japan Society for Analytical Chemistry, 66th Nenkai 2017

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

APWC: Analysis of Organic Solvent Samples by Automatic Standard Addition Method using ASAS-ICP-MS/MS
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ