▾
CS
▾
Obor
GCMS
ICPMS
LCMS
Rozcestník
Novinky
Články
Události
Akademie
již brzy
Knihovna
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Marketplace
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
GCMS
ICPMS
LCMS
Účet
Přihlásit se
Registrovat
▾
Novinky
▾
Knihovna
Webináře
Produkty
▾
Společnosti
▾
Kariéra
▾
CS
▾
Databáze
GCMS
LCMS
ICPMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(12)
Forenzní analýza a toxikologie
(11)
Klinická analýza
(10)
Lipidomika
(8)
Polovodiče
Polovodiče
Instrumentace
Iontová chromatografie
(16)
2D-LC
(8)
AAS
(3)
Elektrochemie
(4)
Výrobce
Agilent Technologies
(77)
Bruker
(3)
Buck Scientific
(1)
CDS Analytical
(2)
Autor
Agilent Technologies
(75)
Bruker Optics
(3)
CDS Analytical
(2)
GL Sciences
(1)
Typ Publikace
Aplikace
(108)
Brožury a specifikace
(6)
Manuály
(1)
Ostatní
(19)
Rok vydání
Aplikace z oblasti Polovodiče - strana 6
Otevřít dokument WCPS: Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2- Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method
ICPMS
WCPS: Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2- Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Otevřít dokument Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
ICPMS
Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
ICPMS
Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Reaching sub-ppm limits of detection for carbon, nitrogen and oxygen with the Element GD Plus GD-MS
ICPMS
Reaching sub-ppm limits of detection for carbon, nitrogen and oxygen with the Element GD Plus GD-MS
Elementární analýza
Instrumentace
Elementární analýza
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
ICPMS
Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument A Dynamic Lab Servicing the Semiconductor Industry
ICPMS
A Dynamic Lab Servicing the Semiconductor Industry
Příprava vzorků, Spotřební materiál
Instrumentace
Příprava vzorků, Spotřební materiál
Výrobce
Savillex
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Agilent ICP-MS Journal (November 2022, Issue 90)
ICPMS
Agilent ICP-MS Journal (November 2022, Issue 90)
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Farmaceutická analýza, Polovodiče
Otevřít dokument Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol
ICPMS
Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
ICPMS
Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Characterization of Iron Nanoparticles in Hydrocarbon Matrices by Single Particle (sp)ICP-MS
ICPMS
Characterization of Iron Nanoparticles in Hydrocarbon Matrices by Single Particle (sp)ICP-MS
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Před
1
...
5
6
7
...
Další