Aplikace z oblasti Polovodiče - strana 12

Otevřít dokument WCPS: Ultratrace Analysis of Phosphorus, Boron and Other Impurities in Photovoltaic Silicon and Trichlorosilane by ICP-MS with High Energy Collision Cell
ICPMS

WCPS: Ultratrace Analysis of Phosphorus, Boron and Other Impurities in Photovoltaic Silicon and Trichlorosilane by ICP-MS with High Energy Collision Cell

Postery
| 2011 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples
ICPMS

Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples

Technické články
| 2010 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Ultratrace Analysis of Solar (Photovoltaic) Grade Bulk Silicon by ICP-MS
ICPMS

Ultratrace Analysis of Solar (Photovoltaic) Grade Bulk Silicon by ICP-MS

Aplikace
| 2008 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Analysis of Electroceramics by Laser Ablation ICP-MS
ICPMS

Analysis of Electroceramics by Laser Ablation ICP-MS

Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Direct Analysis of Photoresist and Related Solvents Using the Agilent 7500cs ICP-MS
ICPMS

Direct Analysis of Photoresist and Related Solvents Using the Agilent 7500cs ICP-MS

Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
ICPMS

Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS

Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
ICPMS

Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS

Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
ICPMS

Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)

Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Equipment Used in Semiconductor Manufacturing Processes and Evaluation Examples
GCMS

Equipment Used in Semiconductor Manufacturing Processes and Evaluation Examples

Brožury a specifikace
| 2025 | Shimadzu
GC/MSD, TOC, LC/MS, LC/MS/MS, LC/QQQ, GC/SQ, Mikroskopie, FTIR Spektroskopie, X-ray, Mechanické zkoušky, HPLC, Elementární analýza, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
GC/MSD, TOC, LC/MS, LC/MS/MS, LC/QQQ, GC/SQ, Mikroskopie, FTIR Spektroskopie, X-ray, Mechanické zkoušky, HPLC, Elementární analýza, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Polovodiče
Otevřít dokument Routine analysis of 7N high purity gallium phosphide by Glow Discharge Mass Spectrometry
GCMS

Routine analysis of 7N high purity gallium phosphide by Glow Discharge Mass Spectrometry

Aplikace
| 2025 | Thermo Fisher Scientific
Elementární analýza
Instrumentace
Elementární analýza
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření
Polovodiče